キヤノンがリリースしたナノインプリント装置を、ASML社のEUV露光装置と比較し、ナノインプリントがEUVにどこまで対抗できるかを分析します。「ナノインプリント装置が今後の半導体業界にどの程度の影響を与えるか？」を把握したい方にオススメです。

キヤノンとASMLの技術資料や特許情報を分析し、両社の装置の内部構造を詳しく解説します。装置の性能向上における課題も紹介するので、今後のナノインプリント・EUV露光装置の開発において求められるコンポーネントを知りたい方には最適な内容です。

ナノインプリントに使われるUV硬化剤や、EUV露光に使われるレジスト材料の開発動向も紹介します。ラムリサーチのドライレジスト技術など海外メーカーの動向も紹介するので、ナノインプリント・EUVに関連した材料メーカーの最新情報をまとめて効率的に理解できます。

背景となる情報として、2nmプロセス開発をリードするTSMCや、AI時代の半導体市場を牽引するNVIDIAなど、半導体市場の今後を見通すキーになる企業の動向も解説します。半導体の製造プロセスと市場がどのように進化するかを見極めたい方に、羅針盤となる情報をお届けします。

技術者の方
ナノインプリント・EUV露光装置に使われるパーツ、ナノインプリント向けのUV硬化剤やEUV向けのレジスト材料の開発に取り組む方には、開発のポイントになる情報をまとめて入手して頂けます。

開発マネジメント、経営・新規事業・技術企画部門の方
ナノインプリントやEUV露光装置向けの新規事業・開発テーマの選定や、そもそも自社が投資すべきテーマとして適切かの判断材料となる情報を入手して頂けます。

知財部の方
ナノインプリント・EUV関連の特許情報を読み解き、企業の動向を分析します。半導体業界で経営戦略のツールとしての特許情報の活用に取り組みたい方は、弊社のノウハウを学んで頂けます。

投資家の方
ASMLやキヤノンに加え、EUV露光装置やナノインプリントの普及による影響の大きい企業への投資判断の材料となる情報を入手して頂けます。例えば、東京エレクトロン・SCREEN・ラムリサーチ・アプライドマテリアルズ等の装置メーカー、TSMC等のファウンドリ、NVIDIA等のファブレスメーカーへの投資を考えている方には参考になる情報をお届け致します。